什么是峰殘留?“殘留”是當(dāng)樣品僅在初始運(yùn)行中注入時(shí)，后續(xù)的色譜圖中峰重復(fù)出現(xiàn)的情況，殘留可以引入到下一個(gè)空白樣品中甚至多個(gè)后續(xù)的空白樣品中。
這種現(xiàn)象會(huì)發(fā)生在我們的早期方法開發(fā)階段、不同實(shí)驗(yàn)室間的方法轉(zhuǎn)移階段、藥品檢測(cè)階段等，殘留問(wèn)題這一令人沮喪的情況一旦出現(xiàn)，一般會(huì)對(duì)檢測(cè)結(jié)果產(chǎn)生干擾，因此消滅它也就是迫在眉睫的事情。
殘留主要有三種類型：體積殘留、吸附殘留和不完全洗脫，下面將描述每一種殘留問(wèn)題的特征，并提供一些區(qū)分的技巧及相應(yīng)的解決方案。
1、體積殘留
特征：在體積殘留中，少量樣品被困在進(jìn)樣系統(tǒng)中，殘留的樣品被進(jìn)樣器帶入下次進(jìn)樣周期。它的特征是相對(duì)于上一次的原始色譜峰，殘留峰的百分率是恒定的。例如，如果原始樣品產(chǎn)生了100,000的峰面積，若殘留率是1%，原始樣品后的空白樣品應(yīng)會(huì)出現(xiàn)一個(gè)是原始樣品峰面積1%(1000)的殘留峰。當(dāng)再次運(yùn)行空白樣品時(shí)，殘留峰的面積會(huì)變成1%的1%(10)。這種連續(xù)不斷的等比稀釋效應(yīng)會(huì)在運(yùn)行2次到3次空白樣品后消失。
解決辦法：
如果懷疑有體積殘留，可以查找可能導(dǎo)致樣品殘留的位置，儀器部件之間的連接存在微小的空隙(如流動(dòng)相在進(jìn)樣過(guò)程中的流路)。如果儀器發(fā)生過(guò)系統(tǒng)超壓的情況，PEEK管路可能會(huì)輕微滑移導(dǎo)致在連接件內(nèi)產(chǎn)生小間隙(色譜圖中可能出現(xiàn)柱外效應(yīng)導(dǎo)致的峰展寬)，這時(shí)你可以斷開各連接部件，再將各部件之間的管路重新固定。
2 、吸附殘留
特征：看起來(lái)類似于體積殘留，但事實(shí)并非如此，這類殘留在后續(xù)的樣品運(yùn)行過(guò)程中不會(huì)迅速消失。例如，第一個(gè)空白樣品可能出現(xiàn)一個(gè)約占原始峰值1%的殘留峰，第二個(gè)空白樣品可能也會(huì)出現(xiàn)一個(gè)是原始峰值的1%或者殘留更少一點(diǎn)的殘留峰，空白樣品中殘留峰的峰值并不會(huì)出現(xiàn)等比稀釋的規(guī)律，這類的殘留來(lái)源是樣品在進(jìn)樣系統(tǒng)或色譜柱內(nèi)的表面吸附，樣品吸附在進(jìn)樣器的內(nèi)聚物表面。進(jìn)樣環(huán)和進(jìn)樣針內(nèi)部是最常見(jiàn)的吸附位置。
解決辦法：
在極性較大稀釋劑(如水)中溶解的小極性樣品最有可能產(chǎn)生吸附殘留，遇到此類情況可以在稀釋劑中適當(dāng)加入一些有機(jī)試劑即可消除殘留，或者增加洗針溶劑的體積或者強(qiáng)度，甚至可以改變管路表面的性質(zhì)(用PEEK管代替不銹鋼管)。
體積殘留和吸附殘留一般是會(huì)同時(shí)出現(xiàn)的，在這種情況下，在第一針甚至第二針的空白樣品中會(huì)出現(xiàn)一個(gè)殘留比例固定的殘留峰，隨著體積殘留所致的殘留峰消失，吸附峰在以后的空白樣品中會(huì)一直存在，當(dāng)上述所有的解決方案都嘗試后，仍不能消除殘留峰的存在。
這種情況下，您也許可以考慮調(diào)整進(jìn)樣順序，即所有高濃度樣品后都跟著一系列的空白樣品，直至殘留峰消失，低濃度的樣品需要優(yōu)先于高濃度樣品進(jìn)樣。若在樣品濃度未知的情況下，需要在進(jìn)樣后增加空白樣品以獲得樣品大致濃度，進(jìn)而適當(dāng)?shù)恼{(diào)整樣品運(yùn)行的順序以免影響后續(xù)樣品的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。
3、不完全洗脫
特征：在梯度洗脫中存在不被完全洗脫物質(zhì)是極不可能的。在等度洗脫中，若存在某組分在一個(gè)運(yùn)行時(shí)間內(nèi)未能洗脫，則該組分會(huì)在后續(xù)的運(yùn)行中出現(xiàn)一個(gè)峰寬異常的峰。
解決辦法：增加運(yùn)行時(shí)間。
科研人的實(shí)驗(yàn)生涯總是那么的悲喜交加，就像做生物分析實(shí)驗(yàn)，一邊為靈敏度高、特異性強(qiáng)、分析速度快的 LC-MS/MS 檢測(cè)技術(shù)兩眼放光，一邊為隨之而來(lái)的污染和殘留眉頭緊鎖.....
